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設(shè)備介紹允許進(jìn)行多功能和創(chuàng)新的納米級(jí)熱分析√ 精確評(píng)估薄膜和微粒的導(dǎo)熱系數(shù)√ 使用三維擴(kuò)散模型揭示各向異性的熱導(dǎo)率√ 量化深層界面的熱邊界導(dǎo)熱系數(shù)√ 在微觀尺度上可視化熱性能分析

這臺(tái)高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù)，它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)，使得我們能夠在小至1µm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射...

多功能高低溫真空探針臺(tái),電-光-氣接口齊全，應(yīng)用場景不受限。可實(shí)現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制?？膳c各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導(dǎo)體參數(shù)測試儀、源表等聯(lián)用，特別適合介電、鐵電、...

大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...

等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強(qiáng)）/ AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場升級(jí)為AT650P

小型臺(tái)式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計(jì)，而不會(huì)犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。

設(shè)備特點(diǎn)：$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個(gè)電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時(shí)測試系統(tǒng)。